중견도약과제는, 나노 패터닝을 위한 “크랙-포토리소그래피” 공정기술 개발(Crack-photolithography for Nanopatterning and Its Applications)을 목표로 약 6.5년 동안 수행한 과제입니다. 2020년 8월 31일 과제는 종료되었고 최종적으로 "최우수 'S' 등급을 받았습니다. 평가위원분들의 의견에 따르면, 해당 분야 최고 권위 저널인 Adv. Mat., Nat. Comm. 등에 논문 게재 뿐만 아니라 산업체로의 기술이전 등이 우수 성과로 뽑혀서, 최종적으로 최우수 평가를 한 것으로 안내 받았습니다. ufnm 연구실의 졸업생 뿐만 아니라 현재 대학원생 그리고 참여한 연구자 모든들께 다시 한번 감사의 마음을 전합니다.
ufnm director
- 2020.12.17
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